教員情報

竹田 圭吾
タケダ ケイゴ
理工学部 電気電子工学科
准教授
Last Updated :2019/06/04

基本情報

プロフィール

    男性
  • メールアドレス

    ktakedameijo-u.ac.jp

学歴

  • 2004年04月, 2007年03月, 名古屋大学, 工学研究科, 量子工学専攻, 博士(工学), 日本

職歴

  • 2007年04月, 2008年03月, 名古屋大学, 大学院工学研究科, 中核的研究機関研究員
  • 2009年04月, 2017年03月, 名古屋大学, 大学院工学研究科, 助教

受賞学術賞

  • 2006年01月
    電気学会東海支部
    平成17年度電気関係学会東海支部連合大会 優秀論文発表賞
    真空紫外レーザ吸収分光法を用いたKr/O_2プラズマ中における酸素原子の絶対密度計測
  • 2012年01月
    Committee of The 14th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics, The 2nd Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials
    Best Award
    Clarification of Si Oxidation Mechanism in O2 and Rare Gas Mixture Plasma with Plasma Diagnostics
  • 2012年01月
    Committee of Workshop of Frontier Science of Interactions between Plasmas and Nano Interfaces
    2nd Nanointerface Innovative Award
    Reactuve dynamics between plasma and microorganism
  • 2013年03月
    応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
    第11回プラズマエレクトロニクス賞
    "Synergic Formation of Radicals by Irradiation with both Vacuum Ultraviolet and Atomic Hydrogen: a Real-time in situ Electron Spin Resonance Study" The Journal of Physical Chemistry Letters, 2 (2011) 1278-1281
  • 2013年09月
    応用物理学会
    第34回(2013年春季)応用物理学会講演奨励賞
    Behaviors of activated species generated by AC power excited non-equilibrium atmospheric pressure Ar plasma jet in atmosphere
  • 2013年11月
    第5回薄膜太陽電池セミナー委員会 組織委員会
    薄膜太陽電池優秀賞
    薄膜シリコン太陽電池プラズマプロセスにおける気相ラジカルフラックスの影響
  • 2014年02月
    Committee of 8th International Conference on Reactive Plasmas, 31st Symposium on Plasma Processing
    ICRP-8 Young Award "Silver Medal"
    Effect of gas flow on spatial distribution of O(3Pj) atoms in ac power excited non-equilibrium atmospheric pressure O2/Ar plasma jet
  • 2015年09月
    応用物理学会
    第37回 応用物理学会論文賞
    Oxidation mechanism of Penicillium digitatum spores through neutral oxygen radical

現在所属している学会

  • 応用物理学会会員
  • 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会会員
  • プラズマ核融合学会会員
  • 表面技術協会会員
  • CVD研究会会員

研究活動

研究分野

  • プラズマ科学, プラズマ理工学
  • 計測工学, 光応用計測
  • 薄膜・表面界面物性, ナノ材料・薄膜

教育研究への取り組み・抱負

    講義では、基礎や理論に重点を置きつつも、それのみを伝えるのではなく、応用例を多く紹介することで習得意欲を刺激し、他の関連学問にも興味が持てるような解説を行うことを心掛けている。研究教育では、学生が課題・目標を自ら設定することを重んじ、物事の真理探求に対する高いモチベーションとチャレンジ精神を育成し、自ら広く専門知識を習得するとともに、教養として身につけるように指導したい。そして、専門性を有効に活用し、創意改善しながら理工学を応用するプロジェクトリーダーとして活躍する総合力の高い人材の育成を目指す。

学術論文

  • Electron behaviors in afterglow of synchronized dc-imposed pulsed fluorocarbon-based plasmas
    共著
    T. Ueyama, Y. Fukunaga, T. Tsutsumi, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Iwata, Y. Ohya, H. Sugai, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    56, 06HC03-1, 06HC03-5
    2017年05月
  • 電子スピン共鳴法を活用したプラズマバイオ反応プロセスの診断
    共著
    石川健治, 近藤隆, 竹田圭吾, 呉準席, 橋爪博司, 田中宏昌, 近藤博基, 太田貴之, 伊藤昌文, 関根誠, 堀勝
    J. Plasma Fusion Res.
    93, 5, 246, 252
    2017年05月
  • Spatial distributions of O, N, NO, OH and vacuum ultraviolet light along gas flow direction in an AC-excited atmospheric pressure Ar plasma jet generated in open air
    共著
    K. Takeda, K. Ishikawa, H. Tanaka, M. Sekine, M. Hori
    Journal of Physics D: Applied Physics
    50, 195202:1, 195202:9
    2017年04月
  • Characteristics of optical emissions of arc plasma processing for high-rate synthesis of highly crystalline single-walled carbon nanotubes
    共著
    A. Ando, K. Takeda, T. Ohta, M. Ito, M. Hiramatsu, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, T. Suzuki, S. Inoue, Y. Ando, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    56, 3, 035101-1, 035101-5
    2017年03月
  • Spatial profiles of interelectrode electron density in direct current superposed dual-frequency capacitively coupled plasmas
    共著
    Y. Ohya, K. Ishikawa, T. Komuro, T. Yamaguchi, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    Journal of Physics D: Applied Physics
    50, 15, 155201-1, 155201-13
    2017年03月
  • Effects of •OH and •NO radicals in the aqueous phase on H2O2 and NO2- generated in plasma-activated medium
    共著
    N. Kurake, H. Tanaka, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Hashizume, K. Nakamura, H. Kajiyama, T. Kondo, F. Kikkawa, M. Mizuno, M. Hori
    Journal of Physics D: Applied Physics
    50, 15, 155202-1, 155202-9
    2017年03月
  • Bactericidal pathway of Escherichia coli in buffered saline treated with oxygen radicals
    共著
    T. Kobayashi, N. Iwata, J.-S. Oh, H. Hahizume, T. Ohta, K. Takeda, K. Ishikawa, M. Hori, M. Ito
    Journal of Physics D: Applied Physics
    50, 15, 155208-1, 155208-7
    2017年03月
  • Behavior of absolute densities of atomic oxygen in the gas phase near an object surface in an AC-excited atmospheric pressure He plasma jet
    共著
    K. Takeda, T. Kumakura, K. Ishikawa, H. Tanaka, M. Sekine, M. Hori
    Applied Physics Express
    10, 3, 036201-1, 036201-4
    2017年02月
  • Absolute density of precursor SiH3 radicals and H atoms in H2-diluted SiH4 gas plasma for deposition of microcrystalline silicon films
    共著
    Y. Abe, K. Ishikawa, K. Takeda, T. Tsutsumi, A. Fukushima, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    Applied Physics Letters
    110, 4, 043902-1, 043902-5
    2017年01月
  • Investigation of effects of ion energies on both plasma-induced damage and surface morphologies and optimization of high-temperature Cl2 plasma etching of GaN
    共著
    Z. Liu, J. Pan, A. Asano, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, O. Oda, M. Sekine, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    56, 2, 026502-1, 026502-6
    2017年01月
  • Microfluidic Transport Through Microsized Holes Treated by Nonequilibrium Atmospheric-Pressure Plasma
    共著
    T. Ito, K. Ishikawa, D. Onoshima, N. Kihara, K. Tatsukoshi, H. Odaka, H. Hashizume, H. Tanaka, H. Yukawa, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, Y. Baba, M. Hori
    IEEE Transactions on Plasma Science
    44, 12, 3060, 3065
    2016年12月
  • Non-Thermal atmospheric pressure plasma activated lactate in Ringer’s solution for anti-tumor effects
    共著
    H. Tanaka, K. Nakamura, M. Mizuno, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kajiyama, F. Utsumi, F. Kikkawa, M. Hori
    Scientific Report
    2016年11月
  • ラジカル支援原子層制御ナノプロセス
    共著
    石川健治, 小林明子, 盧 翌, 竹田圭吾, 近藤博基, 関根 誠, 堀 勝
    化学工学
    80, 7, 424, 427
    2016年07月
  • Helium-based cold atmospheric plasma-induced reactive oxygen species-mediated apoptotic pathway attenuated by platinum nanoparticles
    共著
    P. Jawaid, M. U. Rehman, Q. L. Zhao, K. Takeda, K. Ishikawa, M. Hori, T. Shimizu, T. Kondo
    Journal of Cellular and Molecular Medicine
    20, 9, 1737, 1748
    2016年06月
  • Effects of nitrogen on apoptosis and changes in gene expression in human lymphoma U937 cells exposed to argon-cold atmospheric pressure plasma
    共著
    Y. Tabuchi, H. Uchiyama, Q.-l. Zhao, T. Yunoki, Q. Andocs, N. Nojima, K. Takeda, K. Ishikawa, M. Hori, T. Kondo
    International Journal of Molecular Medicine
    37, 6, 1706, 1714
    2016年04月
  • Effect of gas residence time on near-edge X-ray absorption fine structures of hydrogenated amorphous carbon films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition
    共著
    L. Jia, H. Sugiura, H. Kondo, K. Takeda, K. Ishikawa, O. Oda, M. Sekine, M. Hiramatsu, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    55, 4, 040305-1, 040305-4
    2016年03月
  • Effects of Radical Species on Structural and Electronic Properties of Amorphous Carbon Films Deposited by Radical-Injection Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
    共著
    L. Jia, H. Sugiura, H. Kondo, K. Takeda, K Ishikawa, O. Oda, M. Sekine, M. Hiramatsu, M. Hori
    Plasma processes and Polymers
    13, 7, 730, 736
    2016年02月
  • Real-time temperature- monitoring of Si substrate during plasma processing and its heat-flux analysis
    共著
    T. Tsutsumi, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, T. Ohta, M. Ito, M. Sekine, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    55, 1S, 01AB04-1, 01AB04-4
    2015年11月
  • Plasma with high electron density and plasma-activated medium for cancer treatment
    共著
    H. Tanaka, M. Mizuno, K. Ishikawa, H. Kondo, K. Takeda, H. Hashizume, K. Nakamura, F. Utsumi, H. Kajiyama, H. Kano, Y. Okazaki, S. Toyokuni, S. Akiyama, S. Maruyama, S. Yamada, Y. Kodera, H. Kaneko, H. Terasaki, H. Hara, T. Adachi, M. Iida, I. Yajima, M. Kato, F. Kikkawa, M. Hori
    Clinical Plasma Medicine
    3, 2, 72, 76
    2015年09月
  • Wavelength dependence for silicon-wafer temperature measurement by autocorrelationtype frequency-domain low-coherence interferometry
    共著
    T. Tsutsumi, T. Ohta, K. Takeda, M. Ito, M. Hori
    Applied Optics
    54, 23, 7088, 7093
    2015年08月
  • EPR-Spin Trapping and Flow cytometric Studies of Free Radicals Generated using Cold Atmospheric Argon Plasma and X-ray irradiation in Aqueous Solutions and Intracellular Milieu
    共著
    H. Uchiyama, Q.-L. Zhao, M. A. Hassan, G. Andocs, N. Nojima, K. Takeda, K. Ishikawa, M. Hori, T. Kondo
    PLoS One
    10
    2015年08月
  • Feedback Control System of Wafer Temperature for Advanced Plasma Processing and its Application to Organic Film Etching
    共著
    T. Tsutsumi, Y. Fukunaga, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, T. Ohta, M. Ito, M. Sekine, M. Hori
    IEEE Transaction of Semiconductor Manufacturing
    28, 4, 515, 520
    2015年08月
  • Suppression of plasma- induced damage on GaN etched by a Cl2 plasma at high temperatures
    共著
    Z. Liu, J. Pan, T. Kako, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, O. Oda, M. Sekine, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    54, 6S2, 06GB04-1, 06GB04-4
    2015年06月
  • シリコン薄膜形成プロセスにおけるプラズマ中の水素原子の計測とその挙動
    共著
    堀 勝, 阿部祐介, 竹田圭吾, 石川健治, 近藤博基, 関根誠, 韓銓建
    Journal of Plasma and Fusion Research
    91, 5, 317, 322
    2015年05月
  • Silicon nitride (SiN) etch performance of CH2F2 plasmas diluted with argon or krypton
    共著
    Y. Kondo, K. Ishikawa, T. Hayashi, Y. Miyawaki, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    54, 4, 040303-1, 040303-4
    2015年03月
  • CF3+ fragmentation by electron impact ionization of perfluoro-propyl-vinyl-ethers, C5F10O, in gas phase
    共著
    Y. Kondo, K. Ishikawa, T. Hayashi, Y. Miyawaki, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    54, 4, 040301-1, 040301-4
    2015年03月
  • Langmuir probe and optical emission spectroscopy studies in magnetron sputtering plasmas for Al-doped ZnO film deposition
    共著
    B. B. Sahu, J. G. Han, M. Hori, K. Takeda
    Journal of Applied Physics
    117, 2, 023301-1, 023301-13
    2015年01月
  • Hydrofluorocarbon ion density of argon- or krypton-diluted CH2F2 plasmas: Generation of CH2F+ and CHF2+ by dissociative-ionization in charge exchange collisions
    共著
    Y. Kondo, Y. Miyawaki, K. Ishikawa, T. Hayashi, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    Journal of Physics D: Applied Physics
    48, 4, 045202-1, 045202-7
    2015年01月
  • Oxidation mechanism of Penicillium digitatum spores through neutral oxygen radicals
    共著
    H. Hashizume, T. Ohta, K. Takeda, K. Ishikawa, M. Hori, M. Ito
    Japanese Journal of Applied Physics
    53, 1, 010209-1, 010209-6
    2014年12月
  • Quantitative clarification of inactivation mechanism of Penicillium digitatum spores treated with neutral oxygen radicals
    共著
    H. Hashizume, T. Ohta, K. Takeda, K. Ishikawa, M. Hori, M. Ito
    Japanese Journal of Applied Physics
    54, 1S, 01AG05-1, 01AG05-5
    2014年11月
  • Robust characteristics of semiconductor-substrate temperature-measurement method using auto-correlation type frequency-domain low-coherence interferometry
    共著
    T. Tsutsumi, T. Ohta, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori, M. Ito
    Japanese Journal of Applied Physics
    54, 1S, 01AB03-1, 01AB03-5
    2014年11月
  • Plasma Medical Science for Cancer Therapy: Toward Cancer Therapy Using Nonthermal Atmospheric Pressure Plasma
    共著
    H. Tanaka, M. Mizuno, K. Ishikawa, K. Takeda, K. Nakamura, F. Utsumi, H. Kajiyama, H. Kano, Y. Okazaki, S. Toyokuni, S. Maruyama, F. Kikkawa, M. Hori
    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE
    42, 12, 3760, 3764
    2014年11月
  • Recovery of atom density drift caused by change in reactor wall conditiond by real-time autonomous control
    共著
    T. Suzuki, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    Journal of Physics D: Applied Physics
    47, 42, 422002-1, 422002-5
    2014年09月
  • An atmospheric pressure inductively coupled microplasma source of vacuum ultraviolet light
    共著
    R. Sato, D. Yasumatsu, S. Kumagai, K. Takeda, M. Hori, M. Sasaki
    Sensors and Actuators A
    215, 144, 149
    2014年08月
  • Temporal changes in absolute atom densities in H2 and N2 mixture gas plasmas by surface modifications of reactor wall
    共著
    T. Suzuki, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    53, 5, 050301-1, 050301-4
    2014年04月
  • Spatiotemporal behaviors of absolute density of atomic oxygen in a planar type of Ar/O2 non-equilibrium atmospheric pressure plasma jet
    共著
    F. Jia, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kano, J. Kularatne, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    Plasma Source Science and Technology
    23, 2, 025004-1, 025004-7
    2014年03月
  • Epitaxial growth of GaN by radical-enhanced metalorganic chemical vapor deposition (REMOCVD) in the downflow of a very high frequency (VHF) N2/H2 excited plasma–effect of TMG flow rate and VHF power
    共著
    Y. Lu, H. Kondo, K. Ishikawa, O. Oda, K. Takeda, M. Sekine, H. Amano, M. Hori
    Journal of Crystal Growth
    391, 97, 103
    2014年01月
  • Field Emissions from Organic Nanorods Armored with Metal Nanoparticles
    共著
    T. Suzuki, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    52, 12R, 120203-1, 120203-4
    2013年11月
  • High H Radical Density Produced by 1-m-length Atmospheric Pressure Microwave Plasma System
    共著
    H. Itoh, Y. Kubota, Y. Kashiwagi, K. Takeda, K. Ishikawa, H. Kondo, H. Toyoda, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    52, 11S, 11NE01-1, 11NE01-3
    2013年11月
  • Effect of gas flow on transport of O (3Pj) atoms produced in ac power excited non-equilibrium atmospheric-pressure O2/Ar plasma jet
    共著
    K. Takeda, M. Kato, F. Jia, K. Ishikawa, H. Kano, M. Sekine, M. Hori
    Journal of Physics D: Applied Physics
    46, 46, 464006-1, 464006-5
    2013年10月
  • Inactivation effects of neutral reactive-oxygen species on Penicillium digitatum spores using non-equilibrium atmospheric-pressure oxygen radical source
    共著
    H. Hashizume, T. Ohta, F. Jia, K. Takeda, K. Ishikawa, M. Hori, M. Ito
    Applied Physics Letters
    103, 15, 153708-1, 153708-4
    2013年10月
  • Rapid measurement of substrate temperatures by frequency-domain low-coherence interferometry
    共著
    T. Tsutsumi, T. Ohta, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori, M. Ito
    Applied Physics Letters
    103, 18, 182102-1, 182102-4
    2013年10月
  • Development of Atmospheric Pressure Plasma Equipment and Its Applications for Treatment of Ag Films Formed from Nano-Particle Ink
    共著
    H. Itoh, Y. Kubota, Y. Kashiwagi, K. Takeda, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, H. Toyoda, M. Hori
    Journal of Physics: Conference Series
    441, Conference 1, 012019-1, 012019-7
    2013年06月
  • Surface morphology on high-temperature plasma-etched gallium nitride
    共著
    R. Kometani, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    Transactions of the Materials Research Society of Japan
    38, 2, 325, 328
    2013年06月
  • Wavelength dependence of photon-induced interface defects in hydrogenated silicon nitride/Si structure during plasma etching processes
    共著
    M. Fukasawa, H. Matsugai, T. Honda, Y. Miyawaki, Y. Kondo, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Sekine, K. Nagahata, F. Uesawa, M. Hori, T. Tatsumi
    Japanese Journal of Applied Physics
    52, 5S2, 05ED01-1, 05ED01-4
    2013年05月
  • A High-Temperature Nitrogen Plasma Etching for Preserving Smooth and Stoichiometric GaN Surface
    共著
    R. Kometani, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    Applied Physics Express
    6, 5, 056201-1, 056201-4
    2013年04月
  • Surface roughness development on ArF- photoresist studied by beam- irradiation of CF4 plasma
    共著
    T. Takeuchi, K. Ishikawa, Y. Setsuhara, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    Journal of Physics D: Applied Physics
    46, 10, 102001-1, 102001-5
    2013年02月
  • Impact of Hydrogen radical-injection plasma on fabrication of microcrystalline silicon thin film for solar cells
    共著
    Y. Abe, S. Kawashima, A. Fukushima, Y. Lu, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori
    Journal of Applied Physics
    103, 3, 033304-1, 033304-6
    2013年01月
  • Development of High-Density Nitrogen Radical Source for Low Mosaicity and High Rate Growth of InGaN Films in Molecular Beam Epitaxy
    共著
    S. Chen, Y. Kawai, H. Kondo, K. Ishikawa, K. Takeda, H. Kano, M. Sekine, H. Amano, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    52, 2R, 021001-1, 021001-5
    2013年01月
  • Development of the sputtering yields of ArF photoresist after the onset of argon ion bombardment
    共著
    T. Takeuchi, C. Corbella, S. Grosse-Kreul, A. von Keudell, K. Ishikawa, H. Kondo, K. Takeda, M. Sekine, M. Hori
    Journal of Applied Physics
    113, 1, 014306-1, 014306-6
    2013年01月
  • Etching-Enhancement Followed by Nitridation on Low-k SiOCH Film in Ar/C5F10O Plasma
    共著
    Y. Miyawaki, E. Shibata, Y. Kondo, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, H. Okamoto, M. Sekine, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    52, 2R, 020204-1, 020204-4
    2013年01月
  • Surface loss probability of H radicals on silicon thin films in SiH4/H2 plasma
    共著
    Y. Abe, A. Fukushima, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori
    Journal of Applied Physics
    113, 1, 013303-1, 013303-6
    2013年01月
  • H2/N2 plasma etching rate of carbon films deposited by H-assisted plasma CVD
    共著
    T. Urakawa, R. Torigoe, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, K. Takeda, M. Sekine, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    52, 1S, 01AB01-1, 01AB01-4
    2013年01月
  • Highly selective etching of SiO2 over Si3N4 and Si in capacitivlly coupled plasma employing C5HF7 gas
    共著
    Y. Miyawaki, Y. Kondo, M. Sekine, K. Ishikawa, T. Hayashi, K. Takeda, H. Kondo, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    52, 1R, 016201-1, 016201-9
    2012年12月
  • トリフルオロメチルトリフルオロビニルエーテル混合ガスを用いた60Hz非平衡大気圧プラズマによるビア底残渣のドライデスミア
    共著
    岩田義幸, 坂本一, 竹田圭吾, 堀 勝
    表面技術
    63, 4, 247, 251
    2012年11月
  • Properties of Indium-Zinc- Oxide Films Synthesized by Radio Frequency Magnetron Sputtering Based on Gas Phase Monitoring Using Multi-Micro Hollow Cathode Lamp
    共著
    M. Inoue, T. Ohta, N. Takota, S. Tsuchitani, M. Ito, S. Takashima, K. Yamakawa, H. Kano, K. Takeda, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    51, 11R, 116202-1, 116202-5
    2012年10月
  • Critical flux ratio of hydrogen radical to film precursor in microcrystalline silicon deposition for solar cells
    共著
    Y. Abe, A. Fukushima, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori
    Applied Physics Letters
    101, 17, 172109-1, 172109-4
    2012年10月
  • Real-time in situ electron spin resonance measurements on fungal spores of Penicillium digitatum during exposure of oxygen plasmas
    共著
    K. Ishikawa, H. Mizuno, H. Tanaka, K. Tamiya, H. Hashizume, T. Ohta, M. Ito, S. Iseki, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    Applied Physics. Letters
    101, 1, 013704-1, 013704-4
    2012年07月
  • Line-Profiles and Translational Temperatures of Pb Atoms in Multi-Micro Hollow Cathode Lamp Measured by Diode Laser Absorption Spectroscopy
    共著
    M. Inoue, T. Ohta, N. Takota, S. Tsuchitani, M. Ito, S. Takashima, K. Yamakawa, H. Kano, K. Takeda, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    51, 8R, 086301-1, 086301-5
    2012年07月
  • An Autonomously Controllable Plasma Etching System Based on Radical Monitoring
    共著
    S. Takahashi, R. Kawauchi, S. Takashima, S. Den, T. Katagiri, H. Kano, T. Ohta, M. Ito, T. Suzuki, K. Takeda, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    51, 7R, 076502-1, 076502-6
    2012年06月
  • Nitriding of Polymer by Low Energy Nitrogen Neutral Beam Source
    共著
    Y. Hara, K. Takeda, K. Yamakawa, S. Den, H. Toyoda, M. Sekine, M. Hori
    Applied Physics Express
    5, 3, 035801-1, 035801-3
    2012年02月
  • Vacuum Ultraviolet and Ultraviolet Radiation-Induced Effect of Hydrogenated Silicon Nitride Etching: Surface Reaction Enhancement and Damage Generation
    共著
    M. Fukasawa, Y. Miyawaki, Y. Kondo, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Sekine, H. Matsugai, T. Honda, M. Minami, F. Uesawa, M. Hori, T. Tatsumi
    Japanese Journal of Applied Physics
    51, 2R, 026201-1, 026201-7
    2012年02月
  • Chemical bond modification in porous SiOCH films by H2 and H2/N2 plasmas investigated by in situ infrared reflection absorption spectroscopy
    共著
    H. Yamamoto, K. Asano, K. Ishikawa, M. Sekine, H. Hayashi, I. Sakai, T. Ohiwa, K. Takeda, H. Kondo, M. Hori
    Journal of Applied Physics
    110, 12, 123301-1, 123301-8
    2011年12月
  • Feature Profiles on Plasma Etch of Organic Films by a Temporal Control of Radical Densities and Real-Time Monitoring of Substrate Temperature
    共著
    H. Yamamoto, H. Kuroda, M. Ito, T. Ohta, K. Takeda, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    51, 1R, 016202-1, 016202-6
    2011年12月
  • Direct current superposed dual-frequency capacitively coupled plasmas in selective etching of SiOCH over SiC
    共著
    T. Yamaguchi, T. Komuro, C. Koshimizu, S. Takashima, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori
    Journal of Physics D: Applied Physics
    45, 2, 025203-1, 025203-7
    2011年12月
  • Inactivation of Penicillium digitatum Spores by a High-Density Ground-State Atomic Oxygen-Radical Source Employing an Atmospheric-Pressure Plasma
    共著
    S. Iseki, H. Hashizume, F. Jia, K. Takeda, K. Ishikawa, T. Ohta, M. Ito, M. Hori
    Applied Physics Express
    4, 11, 116201-1, 116201-3
    2011年10月
  • Spatial Distributions of Electron, CF, and CF2 Radical Densities and Gas Temperature in DC-Superposed Dual-Frequency Capacitively Coupled Plasma Etch Reactor Employing Cyclic-C4F8/N2/Ar Gas
    共著
    T. Yamaguchi, T. Kimura, C. Koshimizu, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    50, 5R, 056101-1, 056101-6
    2011年05月
  • Synergistic Formation of Radicals by Irradiation with Both Vacuum Ultraviolet and Atomic Hydrogen: A Real-time In Situ Electron Spin Resonance Study
    共著
    K. Ishikawa, N. Sumi, A. Kono, H. Horibe, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    The Journal of Physical Chemistry Letters
    2, 11, 1278, 1281
    2011年05月
  • H2/N2 plasma damage on porous dielectric SiOCH film evaluated by in situ film characterization and plasma diagnostics
    共著
    H. Yamamoto, K. Takeda, K. Ishikawa, M. Ito, M. Sekine, M. Hori, T. Kaminatsui, H. Hayashi, I. Sakai, T. Ohiwa
    Journal of Applied Physics
    109, 8, 084112-1, 084112-8
    2011年04月
  • Mechanism of plasma-induced damage to low-k SiOCH films during plasma ashing of organic resists
    共著
    K. Takeda, Y. Miyawaki, S. Takashima, M. Fukasawa, K. Oshima, K. Nagahata, T. Tatsumi, M. Hori
    Journal of Applied Physics
    109, 3, 033303-1, 033303-5
    2011年02月
  • Hydrophobic treatment of organics against glass employing nonequilibrium atmospheric pressure pulsed plasmas with a mixture of CF4 and N2 gases
    共著
    H. Inui, K. Takeda, K. Ishikawa, T. Yara, T. Uehara, M. Sekine, M. Hori
    Journal of Applied Physics
    109, 1, 013310-1, 013310-6
    2011年01月
  • Behaviors of Absolute Densities of N, H, and NH3 at Remote Region of High-Density Radical Source Employing N2/H2 Mixture Plasmas
    共著
    S. Chen, H. Kondo, K. Ishikawa, K. Takeda, M. Sekine, H. Kano, S. Den, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    50, 1S1, 01AE03-1, 01AE03-6
    2011年01月
  • Laser Scattering Diagnosis of a 60-Hz Non-Equilibrium Atmospheric Pressure Plasma Jet
    共著
    F. Jia, N. Sumi, K. Ishikawa, H. Kano, H. Inui, J. Kularatne, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, A. Kono, M. Hori
    Applied Physics Express
    4, 2, 026101-1, 026101-3
    2011年01月
  • Measurement of Hydrogen Radical Density and its Impact on Reduction of Copper Oxide in Atmospheric-Pressure Remote Plasma Using H2 and Ar Mixture Gases
    共著
    H. Inui, K. Takeda, H. Kondo, K. Ishikawa, S. Makoto, H. Kano, N. Yoshida, M. Hori
    Applied Physics Express
    3, 12, 126101-1, 126101-3
    2010年12月
  • Dependence of Surface-Loss Probability of Hydrogen Atom on Pressures in Very High Frequency Parallel-Plate Capacitively Coupled Plasma
    共著
    Y. Abe, S. Kawashima, K. Takeda, M. Sekine, M. Hori
    Applied Physics Express
    3, 10, 106001-1, 106001-3
    2010年10月
  • Monolithic self-sustaining nanographene sheet grown using plasma-enhanced chemical vapor deposition
    共著
    W. Takeuchi, K. Takeda, M. Hiramatsu, Y. Tokuda, H. Kano, S. Kimura, O. Sakata, H. Tajiri, M. Hori
    Phys. Status Solidi A
    207, 1, 139, 143
    2010年09月
  • Surface Loss Probability of Nitrogen Atom on Stainless-Steel in N2 Plasma Afterglow
    共著
    S. Takashima, K. Takeda, S. Kato, M. Hiramatsu, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    49, 7R, 076101-1, 076101-4
    2010年07月
  • Etching characteristics of organic low-k films interpreted by internal parameters employing a combinatorial plasma process in an inductively coupled H2/N2 plasma
    共著
    C. S. Moon, K. Takeda, M. Sekine, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Hori
    Journal of Applied Physics
    107, 11, 113310-1, 113310-8
    2010年06月
  • Surface loss probabilities of H and N radicals on different materials in afterglow plasmas employing H2 and N2 mixture gases
    共著
    C. S. Moon, K. Takeda, S. Takashima, M. Sekine, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Hori
    Journal of Applied Physics
    107, 10, 103310-1, 103310-7
    2010年05月
  • High performance of compact radical monitoring probe in H2/N2 mixture plasma
    共著
    C. S. Moon, K. Takeda, S. Takashima, M. Sekine, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Hori
    Journal of Vacuum Science and Technology B
    28, 2, L17, L21
    2010年03月
  • Development of atomic monitoring probe and its application to spatial distribution measurements of H and O atomic radical densities in radical-based plasma processing
    共著
    S. Takahashi, S. Takashima, K. Yamakawa, S. Den, H. Kano, K. Takeda, M. Hori
    Journal Applied Physics
    106, 5, 053306-1, 053306-4
    2009年09月
  • Combinatorial Plasma Etching Process
    共著
    C. S. Moon, K. Takeda, M. Sekine, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Hori
    Applied Physics Express
    2, 9, 096001-1, 096001-3
    2009年09月
  • Simultaneous Measurement of Substrate Temperature and Thin-Film Thickness on SiO2/Si Wafer using Optical-Fiber-Type Low-Coherence Interferometry
    共著
    T. Ohta, C. Koshimizu, K. Kawasaki, K. Takeda, M. Ito
    Journal Applied Physics
    105, 1, 013110-1, 013110-7
    2009年01月
  • Absolute Density and Temperature of O(1D2) in Highly Ar or Kr Diluted O2 Plasma
    共著
    K. Takeda, S. Takashima, M. Ito, M. Hori
    Applied Physics Letters
    93, 2, 021501-1, 021501-3
    2008年07月
  • Fabrication of Carbon Nanowalls using Electron Beam Excited Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
    共著
    T. Mori, M. Hiramatsu, K. Yamakawa, K. Takeda, M. Hori
    Diamond and Related Materials
    17, 7—10, 1513, 1517
    2008年02月
  • Roles of Oxidizing Species in a Nonequilibrium Atmospheric-pressure Pulsed Remote O2/N2 Plasma Glass Cleaning Process
    共著
    M. Iwasaki, Y. Matsudaira, K. Takeda, M. Ito, E. Miyamoto, T. Yara, T. Uehara, M. Hori
    Journal of Applied Physics
    103, 2, 023303-1, 023303-7
    2008年01月
  • Diagnostics of Surface Wave Excited Kr/O2 Plasma for Low-Temperature Plasma Oxidation Processes
    共著
    K. Takeda, Y. Kubota, A. Serdyuchenko, S. Takashima, M. Ito, Y. Matsumi, M. Hori
    Journal of Applied Physics
    102, 1, 013302-1, 013302-6
    2007年07月
  • Effect of Low Level O2 Addition to N2 on Surface Cleaning by Nonequilibrium Atmospheric- Pressure Pulsed Remote Plasma
    共著
    M .Iwasaki, K. Takeda, M. Ito, T. Yara, T. Uehara, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    46, 23, L540, L542
    2007年06月
  • Silicon Dioxide Etching Process for Fabrication of Micro-Optics employing Pulse-Modulated Electron-Beam-Excited Plasma
    共著
    K. Takeda, T. Ohta, M. Ito, M. Hori
    Journal of Vacuum Science & Technology A
    24, 5, 1725, 1729
    2006年08月
  • Temperature-Measurement System Using Optical Fiber-Type Low-Coherence Interferometry for MultiLayered Substrate
    共著
    K. Takeda, Y. Tomekawa, T. Shiina, M. Ito, Y. Okamura, N. Ishii
    Japanese Journal of Applied Physics
    43, 11A, 7737, 7741
    2004年11月
  • A Novel Silicon-Dioxide Etching Process Employing Pulse-Modulated Electron Beam-Excited Plasma
    共著
    K. Takeda, Y. Tomekawa, M. Iwasaki, M. Ito, T. Ohta, K. Yamakawa, M. Hori
    Japanese Journal of Applied Physics
    43, 9A/B, L1166, L1168
    2004年08月
  • Silicon-oxide etching process employing an electron-beam- excited plasma
    共著
    M. Ito, K. Takeda, T. Shiina, Y. Okamura, H. Nagai, M. Hori, T. Goto
    Journal of Vacuum Science & Technology B
    22, 2, 543, 547
    2004年02月

講演・口頭発表等

  • プラズマセンサーによる環境管理
    共著
    竹田圭吾, 堀 勝
    SMBC環境ビジネスフォーラム
    2008年12月
  • Clarification of Si Oxidation Mechanism in O2 and Rare Gas Mixture Plasma with Plasma Diagnostics
    共著
    K. Takeda, M. Hori
    The 14th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics, The 2nd Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials
    2012年01月
  • AC励起非平衡大気圧Arプラズマジェットにおける活性種生成への大気巻き込みの影響
    共著
    竹田圭吾, 石川健治, 田中宏昌, 加納浩之, 関根 誠, 堀 勝
    平成25年秋季第74回応用物理学会学術講演会
    2013年09月
  • Diagnostics of AC Excited Non-equlibrium Atmospheric Pressure Ar PlasmaJet for Plasma Biomedical Applications
    共著
    K. Takeda, M. Hori
    The 9th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing
    2014年01月
  • Behaviors of activated species in SiH4/H2 plasma for µc-Si:H thin film deposition
    共著
    K. Takeda, Y. Abe, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    18th Korea - Japan Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics
    2014年02月
  • Diagnostics of activated species generated by AC excited non-equilibrium atmospheric pressure Ar plasma jet for plasma medical and bio applications
    共著
    K. Takeda, K. Ishikawa, H. Tanaka, H. Kano, M. Sekine, M. Hori
    International workshop on control of fluctuation of plasma processes -Joint International Workshop between "Frontier science of interactions between plasmas and nano-interfaces" and "Plasma medical innovation"- 8th ICRP/31th SPP
    2014年02月
  • Control of Etching Process based on Real-time Monitoring of Atomic Radical Density and Wafer Temperature
    共著
    K. Takeda, T. Suzuki, H. Kondo, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori
    The International Symposium on Plasma-Nano Materials and Processes
    2014年04月
  • Behaviors of hydrogen atom and SiH3 radical in SiH4/H2 plasma measured with absorption spectroscopy
    共著
    K. Takeda, Y. Abe, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    The 6th International Workshop on Plasma Spectroscopy
    2014年06月
  • Behaviors of Hydrogen Atom and Film Precursor in SiH4/H2 Plasma for Silicon Thin Film Deposition measured by absorption spectroscopy
    共著
    K. Takeda, Y. Abe, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    Nagoya University (NU) & Sungkyunkwan University (SKKU) Joint Symposium 2014
    2014年11月
  • Measurement of atomic oxygen generated by AC excited atmospheric pressure O2/Ar plasma with vacuum ultraviolet absorption spectroscopy
    共著
    K. Takeda, K. Ishikawa, M. Sekine, M. Hori
    The 20th Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics & The 7th Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials
    2015年01月
  • Plasma Etching Process based on Teal-time Monitoring of Radical Density and Substrate Temperature
    共著
    K. Takeda, Y. Fukunaga, T. Tsutsumi, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    The 50th Winter Annual Conference of the Korean Vacuum Society
    2015年02月
  • Behaviors of Reactive Species in SiH4/H2 Plasma for Silicon Thin Film Deposition
    共著
    K. Takeda, Y. Abe, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    The 3rd Korea-Japan Joint Symposium on Advanced Solar Cells
    2015年02月
  • プラズマ計測技術とその応用例
    単著
    竹田圭吾
    第六回先端プラズマ技術研究会
    2015年07月
  • 大気圧プラズマ診断の基礎とその重要性
    単著
    竹田圭吾
    プラズマバイオ科学技術研究センター主催 第3回プラズマバイオ異分野融合セミナー
    2015年12月
  • 気相プラズマ中及び液面近傍ラジカルの診断
    共著
    竹田圭吾, 石川健治, 田中宏昌, 関根 誠, 堀 勝
    第77回応用物理学会秋季学術講演会
    2016年09月
  • Diagnostics of reactive species in processing plasma for nano fabrications
    共著
    K. Takeda, Y. Abe, K. Ishikawa, H. Kondo, M. Sekine, M. Hori
    Taiwan- Japan Joint Workshop of 5th Workshop for Electrical and Electronic Engineering Applications, 5th International Workshop for Nano-Carbon and Workshop and 7th International Workshop for Plasma-bio Science and Technology
    2017年03月
  • プラズマ医療科学の発展に向けて 『プラズマ計測,医療用プラズマ源の観点から』
    共著
    内田儀一郎, 竹田圭吾
    新学術領域「プラズマ医療科学の創成」若手ワークショップ
    2017年05月
  • 太陽電池用シリコン薄膜合成にいる SiH4/H2プラズマ内の活性種反応機構
    共著
    竹田圭吾, 石川健治, 近藤博基, 関根 誠, 堀 勝
    第7回プラズマバイオ異分野融合セミナー、第5回グリーンイノベーションセミナー
    2017年04月

その他の研究業績

  • 光ファイバ型低コヒーレンス干渉計を用いた膜厚温度センサの開発
    共著
    川崎寛太, 竹田圭吾, 伊藤昌文, 輿水地塩
    電子情報通信学会技術研究報告
    103, 618, 19, 24
    2004年01月
  • SiO2 etching for optical device using pulse-modulated electron-beam-excited plasma
    共著
    T. Ohta, M. Ito, K. Takeda, M. Hori
    SPIE Proceedings
    6050, 60500W
    2005年12月
  • Behaviors of Grand and Excited O Atoms in O2 and Rare Gases Mixture Surface Wave Plasmas Measured By Vacuum Ultraviolet Laser Absorption Spectroscopy
    共著
    K. Takeda, S. Takashima, M. Hori
    Proceedings of the 13th International Symposium on LASER-AIDED PLASMA DIAGNOSTICS
    NIFS-PROC-68, 178, 181
    2007年09月
  • 分光技術を用いたAC励起非平衡大気圧プラズマジェットの診断
    単著
    竹田圭吾
    プラズマエレクトロニクス分科会会報
    59, 10, 11
    2013年12月


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